化工进展 ›› 2016, Vol. 35 ›› Issue (03): 890-895.DOI: 10.16085/j.issn.1000-6613.2016.03.037

• 精细化工 • 上一篇    下一篇

3-双(辛酰胺乙基)氨基-2-羟基-1-丙基磺酸钠表面活性剂的合成及性能

余潇潇, 王敬文, 刘学民, 张媛媛, 张琳   

  1. 江南大学化学与材料工程学院, 江苏 无锡 214122
  • 收稿日期:2015-06-17 修回日期:2015-08-24 出版日期:2016-03-05 发布日期:2016-03-05
  • 通讯作者: 刘学民,副教授,主要研究方向为表面活性剂的合成与应用。E-mail:lxm@jiangnan.edu.cn.
  • 作者简介:余潇潇(1991-),男,硕士研究生。

Synthesis and properties of 3-bis(octylamidoethyl)amino- 2-hydroxypropane sulfonate surfactant

YU Xiaoxiao, WANG Jingwen, LIU Xuemin, ZHANG Yuanyuan, ZHANG Lin   

  1. School of Chemical and Material Engineering, Jiangnan University, Wuxi 214122, Jiangsu, China
  • Received:2015-06-17 Revised:2015-08-24 Online:2016-03-05 Published:2016-03-05

摘要: 以正辛酸、二乙烯三胺、环氧氯丙烷和亚硫酸钠为主要原料合成了一种氨基磺酸盐型两性表面活性剂3-双(辛酰胺乙基)氨基-2-羟基-1-丙基磺酸钠(BHS),用红外光谱、质谱和核磁共振谱图确证了产物的结构。该表面活性剂水溶液性能测试结果表明:25℃时临界胶束浓度(cmc)为5.2×10-4mol/L,最低水/空气界面张力(γcmc)低至24mN/m.加入0.1mol/L NaCl后,cmc减小至4.7×10-4mol/L,γcmc降低至23.7mN/m.升高温度,cmc增加,γcmc下降。BHS的润湿性、乳化性能优于双辛酰胺乙基丙烷磺酸钠表面活性剂。

关键词: 两性表面活性剂, 氨基磺酸, 界面张力, 临界胶束浓度

Abstract: An amphoteric surfactant,3-bis(octylamidoethyl)amino-2-hydroxypropane sulfonate(BHS),was synthesized using octanoic acid,diethylenetriamine,epichlorohydrin and sodium bisulfite as starting materials. The structure of this surfactant was confirmed by FTIR,ESI-MS and 1H NMR. The critical micelle concentration(cmc)was 0.52×10-4mol/L and the lowest surface tension(γcmc)was 24mN/m at 25℃。 With the addition of NaCl solution (0.1mol/L),the cmc and γcmc decreased to 0.47×10-4mol/L and 23.7mN/m,respectively. With an increase in temperature,the cmc increased,while the γcmc decreased. The performance of BHS showed that this surfactant exhibited better foam stability,wetting and emulsifying abilities than another typical surfactant bis(octylamidoethyl)amino propane sulfonate.

Key words: amphoteric surfactant, amino acid, interface tension, critical micelle concentration

中图分类号: 

京ICP备12046843号-2;京公网安备 11010102001994号
版权所有 © 《化工进展》编辑部
地址:北京市东城区青年湖南街13号 邮编:100011
电子信箱:hgjz@cip.com.cn
本系统由北京玛格泰克科技发展有限公司设计开发 技术支持:support@magtech.com.cn