磁控溅射制备非晶态WO3薄膜的光催化性能
黄佳木，李 璐，刘园园，赵 培，董思勤
- 重庆大学材料科学与工程学院，重庆 400045
Photocatalytic properties of amorphous WO3 thin films grown by magnetron sputtering
HUANG Jiamu，LI Lu，LIU Yuanyuan，ZHAO Pei，DONG Siqin
- College of Materials Science and Engineering，Chongqing University，Chongqing 400045，China
摘要：
采用射频反应磁控溅射工艺在玻璃基片上沉积了非晶态WO3薄膜。通过光催化降解亚甲基蓝和罗丹明B溶液实验，研究了所制WO3薄膜的光催化活性和使用寿命。X射线衍射（XRD）分析表明：所制备的WO3薄膜为非晶态。光催化实验表明：紫外光照3 h后，薄膜对亚甲基蓝和罗丹明B溶液的最大降解率分别为83.26%和72.73%。重复使用3次后，薄膜对亚甲基蓝的降解率保持在75%以上，7次使用后薄膜基本丧失光催化活性。采用去离子水超声处理30 min的方法可使已失活薄膜对亚甲基蓝的降解率从20% 恢复至81%。