化学机械抛光技术研究进展
宋晓岚，李宇焜，江 楠，屈一新，邱冠周
- 中南大学资源加工与生物工程学院；北京化工大学化学工程学院
Recent development of chemical mechanical polishing
SONG Xiaolan，LI Yukun，JIANG Nan，QU Yixin，QIU Guanzhou
- College of Resources Processing and Bioengineering，Central South University；College of Chemical Engineering，Beijing University of Chemical Technology
摘要： 通过回顾化学机械抛光技术的发展历史，概述了化学机械抛光作用机制与实际应用情况，着重阐述了几种重要抛光浆料（如CeO2、SiO2、Al2O3抛光浆料）的优缺点、抛光机理及其国内外新近制备方法，进一步展望了化学机械抛光技术的发展前景与新型抛光浆料的开发方向。